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Scatterometrie

Figure1Scatterometrie ist der Überbegriff für verschiedene nicht abbildende optische Messmethoden die verwendet werden um periodische Strukturen, mit Dimensionen unterhalb der optischen Auflösungsgrenze, zu charakterisieren. Die stellt eine etablierte Technik im Bereich der CD und Profil Metrologie dar und ist eine der weitverbreitetsten Methoden für die CD-Metrologie im Bereich der Halbleitertechnik.

 

Abgeschlossene Projekte:

  • Design und Herstellung von Nahfeld-Fernfeld-Transformatoren mittels Sub-100 nm Zwei-Photonen-Polymerisation (DFG)
  • Entwicklung funktioneller sub-100 nm 3D-Zwei-Photonen-Polymerisationstechnik und optische Charakterisierungsmethoden (DFG)

Veröffentlichungen

  1. Ferreras Paz, V., Frenner, K., & Osten, W. (2014). Increasing Scatterometric Sensitivity by Simulation Based Optimization of Structure Design. In W. Osten (Ed.), Fringe 2013 - 7th International Workshop on Advanced Optical Imaging and Metrology (pp. 345–348). Springer Berlin Heidelberg.
  2. Ferreras Paz, V., Peterhänsel, S., Frenner, K., & Osten, W. (2012). Solving the inverse grating problem by white light interference Fourier scatterometry. Nature Light: Science & Applications, 1(11), e36.
  3. Bilski, B., Frenner, K., & Osten, W. (2011). About the influence of Line Edge Roughness on measured effective–CD. Optics Express, 19(21), 19967.
  4. Ferreras Paz, V., Peterhänsel, S., Frenner, K., Osten, W., Ovsianikov, A., Obata, K., & Chichkov, B. (2011). Depth sensitive Fourier-Scatterometry for the characterization of sub-100 nm periodic structures. In Proceedings of SPIE (Vol. 8083, p. 80830M–80830M–9).
  5. Osten, W., Ferreras Paz, V., Frenner, K., Schuster, T., & Bloess, H. (2009). Simulations of Scatterometry Down to 22 nm Structure Sizes and Beyond with Special Emphasis on LER. In AIP Conference Proceedings (Vol. 1173, pp. 371–378). AIP.
  6. Schuster, T., Rafler, S., Ferreras Paz, V., Frenner, K., & Osten, W. (2009). Fieldstitching with Kirchhoff-boundaries as a model based description for line edge roughness (LER) in scatterometry. Microelectronic Engineering, 86(4-6), 1029–1032.
  7. T. Schuster, S. Rafler, W. Osten, P. Reinig, T. Hingst, "Scatterometry from crossed grating structures in different configurations", Proc. SPIE 6617, 661715-1 – 661715-9 (2007)
  8. M. Totzeck: „Numerical simulation of high-NA quantitative polarization microscopy and corresponding near-fields", Optik 112 (9), 399-406 (2001)