Interferometrie und Diffraktive Elemente

Das Ziel der Forschungsarbeiten ist die Untersuchung neuer Messkonzepte durch den Einsatz von diffraktiven Optiken.

Ein Arbeitsschwerpunkt liegt im Bereich der Formprüfung optischer Flächen, insbesondere von Asphären. Für diesen Zweck werden computergenerierte Hologramme (CGH) eingesetzt, die am ITO designed und hergestellt werden. Daneben werden flexible Messverfahren untersucht, die statische Nullkorrektoren ergänzen oder ersetzen können. Neben CGH für die Interferometrie entwickeln und fertigen wir diffraktive Elemente und Mikrooptiken für andere Anwendungen, z.B. UV-Messsysteme, Strahlformungsaufgaben und Wellenfrontsensoren.

Publikationen

  1. 2025

    1. A. Savchenko, C. Pruß, A. Herkommer, and S. Reichelt, “Effect of sample thickness on etching rate: Simulations and experiments,” Journal of the European Optical Society-Rapid Publications, vol. 21, Art. no. 2, 2025, doi: 10.1051/jeos/2025049.
    2. A. Savchenko, C. Pruß, A. Herkommer, and S. Reichelt, “Effect of substrate thickness on the etching rate of diffractive optical elements,” in DGaO Proceedings 2025, DGaO, Ed., 2025. [Online]. Available: https://www.dgao-proceedings.de/download/126/126_b35.pdf
    3. J. Rühle et al., “Polarization Camera based Fringe Locking Control of a Writing Head for Scanning Beam Interference Lithography,” in 2025 American Control Conference (ACC), Jul. 2025, pp. 3254–3259. doi: 10.23919/ACC63710.2025.11107550.
    4. C. Pruss et al., “Absolute position information to reduce uncertainty in flexible asphere and freeform metrology,” in Twelfth European Seminar on Precision Optics Manufacturing, G. Fütterer, C. Wünsche, O. W. Fähnle, H. Thieß, and A. Haberl, Eds., SPIE, 2025, p. 1378909. doi: 10.1117/12.3076101.
    5. W. Osten et al., “The reconstruction, testing, and improvement of a historical giant astronomical telescope,” in Ultra-High-Definition Imaging Systems VIII, S. Miyata, T. Yatagai, and Y. Koike, Eds., SPIE, 2025, p. 1338902. doi: 10.1117/12.3040884.
    6. I. Ortlepp et al., “Enhanced Vectorial Measurement Uncertainty Model,” Metrology, vol. 5, Art. no. 2, Apr. 2025, doi: 10.3390/metrology5020019.
    7. D. Didychenko et al., “Analysis of laser-induced damage threshold of circular grating waveguide structures exposed to sub-picosecond laser radiation centered at a wavelength of 1030 nm,” Applied Physics B, vol. 131, Art. no. 3, Feb. 2025, doi: 10.1007/s00340-025-08414-1.

Gruppenleiter

Dieses Bild zeigt Christof Pruß

Christof Pruß

Dr.-Ing. Dipl.-Phys.

Gruppenleiter Interferometrie und diffraktive Elemente

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